真空鍍膜機(jī)主要是指一種需要在高真空下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)。它主要分為蒸發(fā)和濺射。

在真空鍍膜機(jī)中，需要鍍膜的基體成為基體，被鍍材料成為靶材。基板和靶材位于同一真空室中。蒸發(fā)鍍膜一般是對(duì)靶材進(jìn)行加熱，使表面組分以原子團(tuán)簇或離子的形式蒸發(fā)，并通過成膜過程沉積在基材表面形成薄膜。對(duì)于濺射鍍膜，真空鍍膜機(jī)可以簡單地理解為用電子或高能激光轟擊靶材，以原子團(tuán)簇或離子的形式濺射表面組分，沉積在基底表面，經(jīng)歷成膜過程，形成薄膜。爐體可采用不銹鋼、碳鋼或其組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格型號(hào)的鍍膜設(shè)備，包括電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、，空心陰極離子鍍和多弧離子鍍。夾具的操作方式包括旋轉(zhuǎn)、旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)+旋轉(zhuǎn)。用戶可根據(jù)工件的尺寸和形狀、轉(zhuǎn)速范圍和旋轉(zhuǎn)精度提出相應(yīng)的要求：普通可調(diào)和變頻調(diào)速。

不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹:

1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等。

2、磁控濺射鍍膜機(jī)：用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、汽車鋼板、散熱器等防護(hù)涂層。

3、磁控濺射鋁膜生產(chǎn)線：用于太陽能利用領(lǐng)域，如太陽能集熱管、太陽能電池等。

4、光學(xué)鍍膜設(shè)備：用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如減反射膜、高反射膜、截止濾光片、防偽膜等。

5、AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：用于液晶屏、等離子屏等信息顯示領(lǐng)域

6、觸摸屏連續(xù)涂布生產(chǎn)線：用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕。

7、磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：用于硬質(zhì)涂層，如刀具、模具及耐磨耐蝕零件。

8、PECVD磁控管生產(chǎn)線：用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。

9、蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備：用于手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等裝飾性配件的鍍膜。

10、低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：適用于建筑玻璃，如防曬膜、低輻射玻璃、防霧防露、自潔玻璃等。

11、連續(xù)磁控濺射抗反射導(dǎo)電膜生產(chǎn)線：用于液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示器、手機(jī)顯示器、數(shù)碼相機(jī)、電腦等電子產(chǎn)品領(lǐng)域。